电解抛光原理

电解抛光原理示意图 

　　上图中 阳极 金属表面上凸出部分在电解过程中的溶解速率大于凹陷部分的溶解速率，经一段时间的 电解 可使表面达到平滑而有光泽的要求。此过程如下图所示： 

　　以钢铁制件为例。电抛光时，工件作为阳极，铅板作为阴极，故在含有磷酸、硫酸和铬酐 (CrO3) 的电解液中进行电解，阳极 ( 工件 ) 铁溶解： Fe-2e- → Fe2+ 然后 Fe2+ 与溶液中的的 Cr2O7 离子 (CrO3 在酸性介质中形成 Cr2O7) 发生下述 氧化还原反应 ： 6Fe2+ 十 Cr2O72- 十 14H+ → 6Fe3+ 十 2Cr3+ 十 7H20 Fe3+ 进一步与溶液中的磷酸氢根和硫酸根离子形成 Fe2(HPO4)3 和 Fe2(SO4)3. 随着阳极附近盐的浓度不断增加 , 在金属表面形成一黏性薄膜 , 从而使电解液浓度增大 , 导电性降低 . 由于在金属不平表面上的液膜厚度分布不均匀，凹入的部分膜较厚，因而电流密度小， Fe 不易溶解而呈钝化状态；凸起的部分膜较薄，电流密度较大， Fe 易于溶解而呈活化状态。这样凸起部分比凹入部分溶解要快，于是粗糙表面逐渐得以平整。 
　　 在阴极，主要是 H+ 和 Cr2O72- 还原反应： 2H+ 十 2e-→H2(g) 
Cr2O72- 十 14H+ 十 6e-→2Cr3+ 十 7H2O 　　 在抛光的电解液中 , 磷酸是应用最广的一种成分。因为磷酸能跟金属或其氧化物反应生成各种磷酸盐，使抛光溶液成为导电性较低的黏性胶状液体，这种胶状液体附着于制件的表面，形成液膜，这对于制件的电化学整平抛光起着很大作用。 
　　 硫酸主要用于提高溶液的导电性和降低槽电压，以节省电能。硫酸的含量一般控制在 15 ％以下，否则会使金属溶解过快，得不到光滑平整的表面。 
　　 铬酐在酸性抛光液中的作用是作强氧化剂，产物 Cr3+ 可生成磷酸二氢铬，增加抛光液的溶度，有利于钢铁制件的整平抛光。当抛光过程发生断电时，铬酐能钝化制件表面，使制件免受腐蚀。
电解抛光应用场合 

1 、医疗器械 2 、石油及化工行业 3 、食品器械 4 、五金加工行业 
电解抛光适用的金属 

1 、不锈钢（包括马氏体及奥氏体） 2 、铝及其合金 3 、铜及合金 4 、镍及其合金 5 、钛合金等 

转贴自http://www.jimtech.com.cn/yljs.htm